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C-WAVE激光器助力W7-X聚變裝置核心診斷技術(shù)研究


近日,國際科學(xué)儀器領(lǐng)域期刊《Review of Scientific Instruments》(RSI,2026年第97卷)正式刊發(fā)了由德國馬克斯·普朗克等離子體物理研究所、美國奧本大學(xué)、西班牙塞維利亞大學(xué)等機構(gòu)聯(lián)合W7-X聚變裝置團隊完成的重磅研究成果。在這項針對相干成像光譜(CIS)技術(shù)核心參數(shù)校準(zhǔn)的關(guān)鍵研究中,HüBNER Photonics旗下C-WAVE系列連續(xù)波可調(diào)諧激光器作為核心實驗設(shè)備,為全波段高精度測量提供了關(guān)鍵支撐,其性能與可靠性得到了國際頂尖科研團隊的權(quán)威驗證。

聚焦聚變診斷核心痛點

相干成像光譜技術(shù)(CIS)是一種基于相機的偏振干涉測量技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)光譜量的高空間分辨率二維測量。該技術(shù)最廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域是聚變等離子體診斷。與基于雙折射晶體的其他系統(tǒng)類似,CIS診斷系統(tǒng)具有特征性的延遲色散 或群延遲 ,即干涉儀相位響應(yīng)隨波長微小變化產(chǎn)生的變化程度。這種色散特性是必須精確表征的關(guān)鍵系統(tǒng)參數(shù)之一,只有通過準(zhǔn)確表征才能從原始診斷信號中推導(dǎo)出物理相關(guān)量(如離子流速度和溫度)。

可控核聚變是人類未來清潔能源的核心發(fā)展方向,而等離子體診斷技術(shù)則是聚變裝置穩(wěn)定運行的“眼睛”。相干成像光譜(CIS)作為一種基于相機的偏振干涉測量技術(shù),能夠以高空間分辨率實現(xiàn)光譜量的二維測量,是當(dāng)前磁約束聚變裝置中測量等離子體離子流速、溫度等關(guān)鍵物理參數(shù)的核心診斷手段。

W7-X 等離子體呈橙色,部分偏濾器板以黑色呈現(xiàn),其擋板以灰色標(biāo)注。(左上角)圖 1 中 (C^{2+}) 號流速測量示例概覽,展示了三套 W7-X CIS 系統(tǒng)及其觀測幾何結(jié)構(gòu)。(右上角)觀測幾何結(jié)構(gòu)示意圖,包含通過 SOL CIS-S 系統(tǒng)獲得的刮削層(SOL)最后閉合磁通面。(右下角)通過 SOL CIS-M 系統(tǒng)獲得的刮削層(SOL)中 (C^{2+}) 號溫度測量示例。(左下角)通過 CICERS 系統(tǒng)獲得的芯部 (C6+) 號溫度測量示例。

在CIS技術(shù)的實際應(yīng)用中,延遲色散(群延遲)是決定物理量測量精度的核心系統(tǒng)參數(shù),只有對其實現(xiàn)精準(zhǔn)表征,才能從原始診斷信號中反演出真實的等離子體物理信息。但傳統(tǒng)校準(zhǔn)光源(如光譜燈、二極管激光器、單色儀)可覆蓋的波長范圍有限,無法觸及聚變研究中多個關(guān)鍵特征譜線所在的波段,只能通過估算方法獲取延遲色散數(shù)據(jù),而估算方法的可靠性此前一直缺乏全面、系統(tǒng)的驗證。

本次刊發(fā)的研究,正是針對這一行業(yè)痛點,全面驗證了基于內(nèi)插、外推的延遲色散估算方法的精度與適用邊界,同時分析了光學(xué)硬件性能、環(huán)境條件對估算結(jié)果的影響,為CIS診斷技術(shù)在聚變裝置中的常規(guī)化、高精度應(yīng)用提供了關(guān)鍵依據(jù)。

C-WAVE激光器

為完成本次驗證工作,研究團隊搭建了三套不同配置的CIS系統(tǒng),全面覆蓋W7-X聚變裝置中刮削層雜質(zhì)流速測量、刮削層離子溫度測量、芯部電荷交換復(fù)合光譜測量三大核心應(yīng)用場景,不同系統(tǒng)分別采用了不同的晶體、成像鏡頭與相機配置,以還原真實的診斷應(yīng)用環(huán)境。

三套系統(tǒng)的示意圖(含主要組件)。干涉儀單元各組件下方的箭頭表示其光軸的旋轉(zhuǎn)取向。

在實驗過程中,研究團隊基于兩套C-WAVE系列連續(xù)波可調(diào)諧激光器,完成了450-750nm全波段無間隙的延遲色散直接測量,以實測數(shù)據(jù)作為“金標(biāo)準(zhǔn)”,對比了冪律擬合、基于系統(tǒng)響應(yīng)模擬的校正因子法兩種主流估算方案的精度表現(xiàn);同時通過調(diào)整參與估算的實測數(shù)據(jù)量,明確了實現(xiàn)可靠估算所需的最少測量次數(shù),還系統(tǒng)分析了晶體對準(zhǔn)偏差、鏡頭質(zhì)量、環(huán)境溫度變化對延遲色散估算精度的影響規(guī)律。

基于 W7-X 裝置 C-WAVE VIS 激光器在 455 nm 附近開展的激光掃描示例 所示數(shù)據(jù)均來自 SOL CIS-S 系統(tǒng)。 (a) 波長計完成的全波長測量結(jié)果以藍色呈現(xiàn),圖像中心位置解算的 SOL CIS-S 系統(tǒng)響應(yīng)以橙色呈現(xiàn)。 (b) 波長計完成的全波長測量結(jié)果以藍色呈現(xiàn),篩選出用于分析的數(shù)據(jù)點以綠色呈現(xiàn)。 (c) 以參考波長為基準(zhǔn)計算的相位差與波長差對應(yīng)關(guān)系。橙色曲線為數(shù)據(jù)的線性擬合結(jié)果;數(shù)據(jù)誤差棒由相位測量的統(tǒng)計漲落計算得到,相位差在圖像中心位置解算。 (d) 全相機傳感器范圍內(nèi),相位差隨波長差的變化斜率(即 Φ?′)。

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